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让技术交底,成为清晰的专利草稿。
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PATENT STUDIO
专利撰写专区
补充真实的技术细节,系统逐步整理交底、权利要求与说明书。
资料与公开证据逐项论证与撰写交叉复核
任务与文稿
附图为示意草稿,需核对原交底;工程JSON可导入已安装的InventorLab附图编辑器。“工程文件与申请表”可按明确尺寸导出基本实体STP及顶视轮廓DXF;复杂装配、DWG和SolidWorks原生工程仍待接入。
免费公开证据检索
按公开号读取谷歌专利网页,使用Crossref检索学术元数据。谷歌学术、图书、产品及国家局提供人工检索入口,未读取的入口不算检索结果。
XML格式转换器
将上方上传的文字型标准DOC/DOCX转为国家局公开DTD校验的正文XML。支持按独立标题划分的权利要求书、说明书、说明书摘要及说明书附图;支持独立“说明书附图”段的行内PNG/JPEG,转为真实TIFF并保留物理尺寸;表格、公式、修订、浮动/裁剪等复杂内容会明确拦截,避免丢失。当前尚未完成官方整案导入验证,不能直接提交。
国家局官方WORD转XML工具流量与Token账单
规则与插件版本
完整保留审核及撰写指令,运行时追加现行规则校正层。无法核验的结论明确留待核验,内部评分不代表授权概率。